健策(3653)大秀散熱黑科技!次世代「Micro Channel Lid」引領 AI 液冷新革命

2026年06月30日 00:00 - 優分析產業數據中心
健策(3653)大秀散熱黑科技!次世代「Micro Channel Lid」引領 AI 液冷新革命
健策(圖片來源:優分析照片庫)

2026年06月30日(優分析/產業數據中心報導)今年的 Computex(台北國際電腦展)全面聚焦 AI 算力與散熱革命,而老字號大廠健策(3653-TW)無疑是場中的亮眼焦點。成立自 1987 年、累積 39 年精密金屬加工底蘊的健策,具備了從複合材料開發、精密沖壓到表面電鍍的完整技術壁壘,健策已成功發展出一套能夠進行大規模、且極具精密度的零組件加工技術,成為全球供應鏈中不可或缺的一環。

主力產品「均熱片」:保護與導熱的完美結合

談到健策(3653-TW)最具代表性的主力產品,非「均熱片」莫屬。在半導體封裝與高階晶片應用中,均熱片扮演著至關重要的角色,主要具備三大核心功能:抗翹曲、保護晶片,以及高效導熱

由於每一款 IC 晶片的設計、架構與發熱特性皆不相同,因此對應的均熱片在規格與外觀形式上也都屬於高度客製化。在健策的產品矩陣中,主要包含了覆蓋式的均熱片(Heat Spreader)以及環狀設計的強化框(Stiffener),這兩大類產品在業界皆統稱為均熱片方案,能精準滿足不同晶片的散熱與結構強化需求。

迎戰 AI 算力爆發,產品線全面進軍「液冷時代」

近年來,隨著 AI 人工智慧與大型資料中心的快速發展,傳統氣冷已無法滿足龐大的解熱需求,散熱技術正式邁向「液冷(水冷)時代」。

面對此一不可逆的產業趨勢,健策的產品佈局也隨之全面進化。從最初的均熱片與基礎散熱零組件,健策已成功跨足至當前最熱門的水冷解決方案。不僅如此,健策更將眼光放遠,積極投入研發下一個世代的終極散熱解方——Micro Channel Lid(微通道均熱蓋)

次世代散熱解方:Micro Channel Lid 的技術革命

針對這項次世代技術,健策點出了其技術核心所在:將微通道(Micro Channel)結構直接整合進均熱片(Lid)本體之中。

這項創新的整合設計帶來了革命性的突破,它成功移除了傳統散熱架構中必須使用的 TIM2(第二層熱介面材料 / 導熱膏)。移除 TIM2 不僅大幅降低了系統的熱阻(Thermal Resistance),更有效縮短了熱傳導的路徑,讓熱能可以更直接、快速地被帶走。

在這樣的高效散熱架構下,不僅晶片解熱能力大幅躍升,還能進一步縮減散熱模組的體積。這對寸土寸金的資料中心而言,意味著能顯著提升整個機櫃的空間利用率,並極大化系統的運算密度,完美契合未來 AI 伺服器的發展需求。

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