為強化台灣半導體人才培育與前瞻研究能量，崇越 (5434-TW) 今 (16) 日宣布捐贈 3 座半導體模型予國立清華大學半導體研究學院，協助教學展示與研究推廣，並預計未來五年，崇越每年將投入 300 萬元贊助清華半導體學院，強化台灣半導體自主創新能力。
崇越董事長潘重良今日與清華半導體研究學院院長同時也是「浸潤式微影之父」的林本堅共同簽署合作意向書，宣布雙方將展開更深度的產學鏈結，攜手培育下一代高階半導體科技人才。
林本堅指出，半導體是國家戰略產業，而人才更是維持競爭力的關鍵，清華半導體學院整合清華教學與研究資源，以打造「國際領先的半導體研究重鎮」為目標。面對全球半導體技術快速迭代、跨領域整合與供應鏈競爭升高，此次攜手崇越科技，有助加速推動產學協作，增強台灣在先進製程與材料領域的人才與研究能量。
林本堅以突破性「浸潤式微影技術」享譽國際，將曝光介質從乾式微影的「空氣」，改以「純水」取代，突破解析度極限，使摩爾定律在 45 奈米世代後得以延續。
崇越也參與這場浸潤式微影技術革命，因應客戶製程需求，與客戶、日本信越化學三方合作，從材料端著手，精準調校純水在光阻表面的接觸角、控制光阻的表面張力、優化防水層的特性，並降低浸潤製程中可能造成的離子遷移與缺陷問題，最終成功開發出可支援浸潤式微影量產的光阻材料。
崇越董事長潘重良分享，半導體材料雖然微小，但往往是推進一個製程世代、甚至改寫技術路線的關鍵。
崇越預計未來 5 年每年投入 300 萬元贊助清華半導體學院，期待未來與清華半導體學院於材料開發、製程技術研發能有更深入的合作，進一步強化台灣的半導體自主創新能力。
崇越捐贈之三座半導體模型，將提供清華半導體學院於教學展示與對外推廣。三座模型呈現晶圓廠實際設計的立體架構；以及各項廠務運作系統模型，包括無塵室、機電空調、超純水、氣體供應、化學品供應、廢水與廢氣處理系統等；並透過擬真模型展示無塵室內的環境，與擴散、微影、蝕刻、清洗、薄膜沉積、CMP、離子植入等主要製程設備，有助學生與參訪者更直觀理解晶圓建廠、製程流程、設備運作及材料應用。
崇越集團副董事長暨崇越永續長賴杉桂表示，此次捐贈的半導體模型，展現崇越多年深耕半導體材料、設備及廠務系統的實務經驗。未來崇越將持續透過教育支持、技術合作與研發投入善盡企業社會責任，期望與清華半導體學院共同培育更多優秀半導體人才、創造永續價值。
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