2025年12月02日（優分析／產業數據中心報導）⸺ 美國商務部宣布，川普政府將向 xLight 提供最高 1.5 億美元資金支持，顯示華府正試圖在先進曝光（光刻）核心技術上重新奪回主導權。這筆投資由 CHIPS 研發辦公室提出，是該單位接手拜登政府時期 74 億美元先進半導體研究預算後的第一筆新案，凸顯美國強化晶片技術自主的急迫性。除了政府補助之外，xLight 亦於 2025 年7月宣布獲得 4,000 萬美元新一輪投資，這筆資金專用於建造首台基於粒子加速器的新型自由電子雷射（FEL）原型，使技術從概念走向工程化落地。
目前全球僅荷蘭 ASML 能量產極紫外光（EUV）曝光機，美國長期仰賴進口，如果想重建半導體製造鏈，那麼曝光機技術的缺乏將成為發展先進製程最大的技術瓶頸。雖然 Substrate 等新創嘗試切入，但仍難以撼動 ASML 的壟斷地位。
ASML 之所以能壟斷 EUV，關鍵在於其光源由美國 Cymer 與德國 Trumpf 等供應商共同打造，技術極度複雜且要求高穩定性，使後進者難以複製。相比之下，自由電子雷射（FEL，Free Electron Laser）被視為少數能挑戰現行 EUV 光源架構的下一代方案。
而xLight 正是以FEL作為突破路徑，該技術源自粒子加速器，可望以更低能耗產生高亮度光源，並在美國國家實驗室協助下開發可與 ASML 系統整合的原型。
xLight 指出，新技術可望將系統與營運成本降低三倍，並計畫在 2028 年實現商用化，同時保持與現有機台的高度相容性。
xLight 成立於 2021 年，總部位於加州帕洛阿圖，今年迎來前英特爾執行長季辛格（Pat Gelsinger）出任執行董事長，強化其在技術驗證、供應鏈協作與政府溝通方面的能量。從美國政府投資到民間創投支持，加上季辛格的加入，xLight 已成為美國在先進製程競賽中加速供應鏈本土化、推動下一代光刻技術的重要棋子。
