液空集團 (Air Liquide) 今 (25) 日宣布，台中全新先進材料廠房順利落成，為集團在台灣首座大規模生產先進沉積與蝕刻材料的基地，進一步鞏固其在亞洲戰略區域的電子事業領導地位。液空集團自 2019 年以來，集團在台灣的投資已超過 10 億歐元，新台幣約 370 億元，
液空集團在台灣半導體產業深耕已久，目前已擁有 54 座專門服務半導體客戶的設施，這些材料對於推動人工智慧 (AI) 與高效能運算 (HPC) 的次世代晶片至關重要。
液空集團指出，此次新廠座落於全球最先進的半導體聚落核心，將生產專為奈米級製程，如原子層沉積 ALD 設計的創新、高精密工程分子材料。隨著晶片製造商將半導體推向趨近原子級製造的極致微縮化，確保材料的可靠性與效能已成為戰略上的重中之重。
液空集團透過將這些客製先進材料的產線本土化，更接近客戶所在地，將為台灣及全亞洲的半導體重要企業提供次世代晶片所需的卓越品質，同時強化供應鏈的韌性。這種策略性的緊密性有助於深化雙方協作，幫助客戶加速技術突破，並順利進入量產階段以提升良率。
此工廠的啟用讓液空集團在台深耕近 40 年的生態系更趨完整。自 2019 年以來，集團在台灣的投資已超過 10 億歐元，新台幣約 370 億元，其全方位的服務目前涵蓋超高純度工業氣體、先進電子材料、供應系統及分析服務。
液空集團執行委員會成員暨電子事業線負責人 Armelle Levieux 表示，這座新廠策略性地設於全球最活躍的半導體樞紐之一台灣，彰顯液空集團致力於驅動包括 AI 在內的下一波科技創新浪潮的決心。身為半導體先進材料的行業領導者，液空集團致力於在產業快速擴張的背景下，透過提供最尖端的分子材料，強化與全球頂尖晶片製造商的夥伴關係。此次落成也是公司在亞洲持續成長的重要里程碑，也進一步鞏固了在亞洲的佈局。
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