切入半導體領域｜瑞儀光電(6176)收購丹麥NIL Technology！「超穎光學」、「奈米壓印技術」用在什麼地方？

2024年9月19日 (優分析產業數據中心) - 瑞儀光電(6176-TW)今日宣布，董事會批准以2.847億歐元（約新台幣102億元）收購丹麥光學公司 NIL Technology ApS 的130萬股股份，進一步擴大其在光學領域的佈局，此次交易金額相當於約3.17億美元。

併購完成之後，瑞儀光電(6176-TW)會結合NILT與2023年併購的芬蘭光學公司Nanocomp之模具與壓印技術，使瑞儀得以在背光與前光等顯示器市場外，跨入了超穎光學的領域。

財務影響性

在介紹什麼是超穎光學技術之前，我們先來看一下併購的金額，102億元新台幣對於股本才46.5億元的瑞儀來說可不是一個小數目，所幸這家公司現金部位高達387億元新台幣，佔總資產高達64.58%，加上公司並沒有太大的資本支出，所以用100億新台幣來併購其實對公司財務影響不大。

但是100億元現金的投資金額，仍舊不算是個小數目，彰顯了公司對該領域的決心，瑞儀到底想切入哪個行業？

什麼是「超穎光學」？什麼是「奈米圖案技術」？

總的來說，瑞儀嘗試靠這項技術進入目前最夯的半導體領域。

NIL Technology ApS（簡稱NILT）是一家總部位於丹麥的民營公司，專注於奈米級微結構技術及紫外光壓印製程。

這家公司所專精的技術稱為Nanoimprint Lithography（NIL，奈米壓印光刻）。

這種技術被歸類在：奈米圖案技術（Nanopatterning）的一種，這種技術其實大家都知道，就是用於曝光程序（光刻），曝光製程的目的就是為了在晶圓上製作圖樣。

舉例來說，ASML是全球唯一能提供極紫外光刻技術（EUV lithography）的設備廠，光刻技術本身也是奈米圖樣製作的核心技術之一。EUV 光刻屬於奈米圖樣技術的輻射光刻技術，能夠實現極高解析度的圖樣，用於生產先進的半導體元件。

雖然 ASML 的 EUV 技術與奈米壓印光刻（Nanoimprint Lithography, NIL）不同，但兩者都屬於奈米圖樣製程的不同技術選擇。

EUV 光刻特別適合於高端製程中小於7奈米的先進製造需求，而 NIL 則因為其成本效益和簡化工藝，在某些大規模生產中具有優勢​​。

舉個實際案例，應用材料公司(AMAT-US)於2023年3月發佈了突破性的圖案化（patterning）技術，該技術能有效協助晶片製造商在生產高效能電晶體和內連佈線時，使用更少的EUV（極紫外光）微影步驟。此創新技術不僅降低了先進晶片製程的成本與複雜性，還減少了製程對環境的影響。

至於瑞儀所提出的名詞：超穎光學（Metasurfaces），正是由奈米級結構組成的人工材料來操控光線的傳播、反射與折射等行為，而奈米圖樣技術正是用來製作這些奈米結構的關鍵技術，也就是NILT所擁有的技術。

超穎光學領域很廣泛，擁有這項技術能符合瑞儀自身客戶對光學元件對於低成本、高精密度與高質量產品的需求，例如3D感測等。

全球供應鏈公司

根據優分析產業數據中心，擁有這些技術的主要都是歐洲公司。全球奈米圖樣市場中包含多個供應商，並且市場相對分散。

以下是提供奈米壓印技術（Nanoimprint Lithography, NIL）的主要廠商簡介：

1. EV Group
   EV Group 是奈米壓印技術領域的全球領導者之一，總部位於奧地利，收入在100-500百萬美元之間。該公司提供NIL設備，廣泛應用於半導體製造、微光學以及奈米技術裝置生產，並且具有高量產能力​。

2. NIL Technology ApS（瑞儀光電併購）
   這家位於丹麥的公司專門研發和生產奈米壓印技術解決方案。NIL Technology 提供先進的奈米壓印模具及相關設備，應用於光學元件、顯示技術和光學感測器領域​。

3. Obducat AB
   這是一家瑞典公司，以其奈米壓印技術聞名。Obducat 提供專門設計的NIL解決方案，特別適用於生產LED、光學元件和奈米電子器件，並且強調降低生產成本的優勢​。

4. SUSS MICROTEC SE
   這家德國公司生產高效能奈米壓印設備，收入約為3億歐元。其NIL技術主要應用於微電子、光學元件以及半導體的生產​。

以德國的上市公司SUSS MICROTEC SE為例，這家公司去年營收約3億歐元，算是裡面的大廠。根據法人預估，五年後將增長至5.8億歐元，可見這確實是一個正在增長的行業。

只是與瑞儀一年營收440億相比不算大，可見公司主要還是著眼於未來潛力，並非立即的獲利貢獻。

根據優分析產業數據中心，全球奈米圖樣市場在2018年達到19.61億美元，並於2022年增長至31.24億美元，年複合增長率為12.34%，並預計將從2023年的36.39億美元增長到2028年的84.96億美元，這表示在2023至2028年間的年複合增長率約為18.48%。

奈米圖樣技術的細分市場可根據不同技術進行分類，主要包含以下三大類：

1. 奈米壓印光刻技術（Nanoimprint Lithography, NIL）
   奈米壓印技術是最具成本效益的奈米圖樣技術，並在市場中佔有重要地位。它在2023年佔據了71%的市場份額，預計到2028年將增長至73.19%。該技術在應用上具有廣泛性，如半導體、光學元件等，並且適用於大規模生產 。

2. 電子束光刻技術（E-beam Lithography）
   電子束光刻技術主要用於高解析度的圖樣製作，儘管它的產量相對較低，但在某些應用中仍然具有不可替代的優勢。到2028年，該技術預計將佔全球奈米圖樣市場的14.97% 。

3. 其他技術（ASML的EUV屬於這種類別）
   包含X射線光刻等技術，主要應用於特定的製程。這類技術的市場份額較小，但仍具發展潛力，預計到2028年將佔11.88%的市場份額 。

瑞儀此番花了100億台幣，取得一個每年總銷市場規模約1000億台幣的入場券，應該是具有發展價值，畢竟五年後的規模將擴大到2000~3000億台幣，而如上所述，奈米壓印光刻技術算是其中主流市場，主要還是看瑞儀接手之後的作為，因為目前來說，這是一個非常分散的市場，沒有一家廠商獨大，而且半導體設備的大廠本身通常也擁有這項技術供自用。

奈米圖樣技術主要是賣給半導體設備製造商，這些設備製造商會再將此集成到半導體的製造設備中，供應給終端的半導體製造商、光學元件生產商和其他電子元件製造商。終端應用客戶以IDM為主佔約六成比重，其餘為代工廠需求，由於屬於成熟製程量產型技術應用，因此這項技術的最大買家來自美國，占比約三成。

瑞儀現在就能將這技術用來開發感光元件、3D感測等半導體元件，將來能否將此產品模組銷售給台灣本土的設備廠，讓這些設備廠切入光刻領域發揚光大，要看公司後續表現。不過對於台灣整體技術實力來說，確實是一大升級。