avater
產業研究部.2024.05.20

【半導體設備】一文解析半導體濕製程

圖片來源:弘塑官網

半導體濕製程是什麼?

半導體濕製程(Semiconductor wet processing)是指使用化學溶液處理半導體材料的過程,濕製程主要用於晶片製造的濕式蝕刻化學清洗等階段,而半導體濕製程設備是指用於濕製程的儀器設備。

支持薄膜前清潔、蝕刻、蝕刻後清潔和光阻離等傳統濕法製程

(圖片來源:辛耘,批次式晶圓濕製程設備)

濕式蝕刻:濕式蝕刻是使用化學溶液去除晶片表面特定區域的材料,其優點在於其製程簡單、成本低廉、蝕刻選擇比高且產量速度快。

一張含有 文字, 螢幕擷取畫面, 字型, 行 的圖片

自動產生的描述

(資料來源:科林研發Lam Research)

化學清洗:清洗是半導體製造的關鍵步驟,用於去除晶片上的污染源,而污染源主要分為五類,分別為微粒子、金屬不純物、有機物、表面微粗糙度、自然生成氧化層

一張含有 文字, 螢幕擷取畫面, 圖表, 圓形 的圖片

自動產生的描述

(資料來源:弘塑)

晶片的汙染源及影響如下:

一張含有 文字, 螢幕擷取畫面, 數字, 功能表 的圖片

自動產生的描述

(資料來源:國研院台灣半導體研究中心)

為什麼先進封裝需求提升,會帶旺濕製程設備展望?

生成式AI浪潮的推動下,資料中心對於AI晶片的需求大增,也推升CoWoS先進封裝產能的需求。目前台積電已全面上修CoWoS擴產目標,預期2024年底 CoWoS月產能增加至3.6萬片,2025年底再增至5-5.5萬片。

根據Precedence Research數據顯示,2024年全球AI晶片市場規模預計為283.7億美元,預計到2032年將達到2,274.8億美元左右,複合年成長率(CAGR)為29.72%

(資料來源:Precedence Research)

濕製程是位於CoWoS先進封裝CoW的研磨洗淨過程,是以CMP(化學研磨)將矽中介層研磨到最薄,再洗淨化學藥劑。

(資料來源:優分析整理芯爵ChipLordi資料)

結論

所以隨著AI晶片需求的推動下,先進封裝產能明顯不足,台積電為了解決需求的問題,積極擴增CoWoS產能,加上濕製程是CoWoS先進封裝不可或缺的環節,這也是造成濕製程設備需求大幅增加的主因。

濕製程設備個股

相關個股:辛耘(3583-TW)、弘塑(3131-TW)

這篇文章對你來說實用嗎?
很實用!
還可以
有待加強...
標籤關鍵字
半導體設備
濕製程設備
CoWoS先進封裝