2026年07月20日（優分析／產業數據中心報導）⸺ 美國康乃爾大學（Cornell University）研究團隊開發出一種新型量子材料「砷化鈮（Niobium Arsenide）」，有望取代未來微晶片中的銅導線。研究顯示，利用砷化鈮製成的超薄奈米線，在奈米尺度下的導電能力優於銅，可望突破晶片持續微縮所面臨的效能瓶頸。
目前微晶片中的銅導線會隨製程進步而持續縮小，但當尺寸進入奈米等級後，電子流動阻力大幅增加，導致電阻上升、傳輸效率下降，成為先進製程的重要限制。
研究團隊將具有量子特性的砷化鈮晶體製成超薄奈米線，實驗結果發現，在奈米尺度下，電子可在這種奈米線中以比銅更低的電阻傳輸，大幅改善傳統銅導線隨尺寸縮小而導電性能下降的問題。
若未來能成功導入量產，這項技術可望提升人工智慧（AI）晶片、資料中心及高效能運算（HPC）處理器的資料傳輸速度，同時降低功耗，進一步提升運算效率。
研究人員指出，隨著銅逐漸接近材料物理極限，全球半導體產業正積極尋找替代材料，而砷化鈮展現出應用於下一代奈米級互連技術的潛力。
不過，研究團隊也表示，在商業化之前，仍須進一步改善製造流程與量產技術。但這項成果為未來打造更小、更快、更節能的處理器提供新的技術方向。
