2024年9月6日（優分析產業數據中心）- 荷蘭政府於週五宣布，將擴大對部分ASML晶片製造設備的出口許可要求，實質上重新掌控該設備的管制權，並使其政策與美國保持一致。
此前，美國單方面對這些設備進行管制，作為其限制中國晶片製造商獲取先進技術的行動之一，以防止北京在技術和軍事領域的進一步發展。ASML在聲明中表示，這一管制權變更預計不會對今年或未來的收益產生影響。
荷蘭科技巨頭ASML的股價於格林威治標準時間09:15下跌1.6%，報708.40歐元。
荷蘭貿易部長Reinette Klever在宣布此更新時表示：「我做出這一決定是為了我們的安全。我們看到由於技術發展，這些特定生產設備的出口存在更多安全風險。」
雖然美國和荷蘭仍在就出口政策進行談判，但週五的決定是一項務實舉措，有助於緩解兩國政府之間的緊張關係。
受到影響的設備是ASML的1970i和1980i DUV（深紫外線）浸潤光刻設備，這些設備大致位於ASML產品系列的中階產品線。
在美國壓力下，荷蘭政府從未允許ASML向中國客戶運送其最先進的EUV設備，並於2023年9月開始要求NXT:2000系列及更高級別的DUV設備出口許可。
ASML已警告中國客戶，從2024年起不再預期交付這些設備。然而，2023年10月，美國單方面開始限制ASML運送1970i和1980i設備，理由是它們包含部分美國零件。荷蘭議會議員對此舉措對荷蘭主權的影響提出質疑，而ASML則努力應對美國和荷蘭分別的許可要求。
美國商務部於週四更新其出口規則，隨後荷蘭更新的規則也在光刻技術相關條款中採用了美國的措辭。
ASML的設備使用雷射來幫助製造晶片上的微小電路。隨著中國公司如中芯國際（SMIC）成功通過多重曝光技術使用這些DUV設備生產先進晶片，業界對1980i和1970i設備的關注度增加。
在週三紐約的一場活動中，ASML執行長Christophe Fouquet表示，中國晶片製造商將能夠使用DUV設備生產7奈米、5奈米，甚至最終達到3奈米的技術水平——這比華盛頓設定的限制更為先進。然而，他指出，使用這種技術的晶片製造商將面臨愈來愈低的良率，這在經濟上不可行，僅是工程技術的展示。
